# ETCH 101

> 김도한 외 6인 공저 · 트윈벨미디어 · 2026-08-05 · ISBN 9791197326714 · 25,200원

반도체 산업의 중심에는 수많은 공정 기술이 있다. 그중에서도 Etch, 즉 식각 공정은 반도체 칩의 회로를 정밀하게 깎아내며 나노 단위의 구조를 구현하는 핵심 공정이다. 그러나 대학 강의나 일반 입문서에서 Etch 공정을 실제 산업 현장의 언어로 설명하는 자료는 많지 않다. 『ETCH 101』은 바로 그 공백을 메우기 위해 기획된 책이다. 반도체 업계 진출을 준비하는 대학생, 취업 준비생, 신입 엔지니어, 그리고 Etch 공정과 장비의 흐름을 처음부터 정리하고 싶은 독자를 위해 현직 반도체 엔지니어들이 직접 경험과 지식을 모아 집필했다. 이 책은 반도체의 기본 개념에서 출발해 Etch 공정의 역할, Dry Etch와 Wet Etch, 플라즈마, ICP와 CCP, OES 분석, 최신 Etch 기술 트렌드, Recipe Design, 공정 최적화, Demo 평가, Dry Etch 장비 구조, RF Power, Process Chamber, Hardware 유지보수와 안전까지 폭넓게 다룬다. 특히 단순한 이론 설명에 머무르지 않고, 실제 엔지니어가 현장에서 마주하는 고민과 판단, 공정 개발의 흐름, 장비 이해, 커리어 로드맵까지 함께 담아냈다는 점이 특징이다. 반도체 산업을 꿈꾸는 독자에게 이 책은 Etch 공정과 장비를 이해하기 위한 입문서이자, 현업의 시각을 미리 경험할 수 있는 실무형 안내서가 되어줄 것이다.

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